反应离子束刻蚀系统
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收费标准
机时0元/小时 -
设备型号
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当前状态
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管理员
汪旻 15001914982 -
放置地点
闵行校区闵行物理楼135
- 仪器信息
- 预约资源
- 检测项目
- 附件下载
- 公告
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名称
反应离子束刻蚀系统
资产编号
24001986
型号
规格
PlasmaPro 100 台
产地
英国
厂家
Oxford Instruments Plasma Technology
所属品牌
出产日期
购买日期
所属单位
物理学系
使用性质
科研
所属分类
资产负责人
汪旻
联系电话
15001914982
联系邮箱
mwang@phy.ecnu.edu.cn
放置地点
闵行校区闵行物理楼135
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
- 样本检测注意事项
- 设备使用相关说明
- 备注
主要规格&技术指标
通过均匀的高导通路径连接的腔室，将反应粒子输送到衬底 - 在维持低气压的同时，允许使用较高的气体通量；
高度可变的下电极 - 充分利用等离子体的三维特性，在适合的高度条件下，衬底厚度最大可达10mm；
电极的温度范围宽（-150°C至+ 400°C），可通过液氮，液体循环制冷机或电阻丝加热 - 可选的吹排及液体更换单元可自动进行模式切换；
由再循环制冷机单元供给的液体控温的电极 - 出色的衬底温度控制； 射频功率加载在喷头上，同时优化气体输送 - 提供具有低频/射频切换功能的均匀的等离子体工艺，可精确控制薄膜应力；
高度可变的下电极 - 充分利用等离子体的三维特性，在适合的高度条件下，衬底厚度最大可达10mm；
电极的温度范围宽（-150°C至+ 400°C），可通过液氮，液体循环制冷机或电阻丝加热 - 可选的吹排及液体更换单元可自动进行模式切换；
由再循环制冷机单元供给的液体控温的电极 - 出色的衬底温度控制； 射频功率加载在喷头上，同时优化气体输送 - 提供具有低频/射频切换功能的均匀的等离子体工艺，可精确控制薄膜应力；
主要功能及特色
满足专项任务中定制化微纳反应芯片微纳通道中纳米级复杂精细结构的刻蚀精度需求，具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力，可提供具有高度均匀，高产量和高精度的工艺。
样本检测注意事项
刻蚀
设备使用相关说明
根据送样议价
备注
不提供线上预约，直接联系设备管理员
预约资源
检测项目
附件下载
公告
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