原子层沉积系统

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  • 7814/小时
    总时长
  • 13/人
    收藏者

收费标准

机时
0元/小时

设备型号

PEALD-200A

当前状态

管理员

田博博 021-54345257

放置地点

闵行校区信息楼202-204
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名称

原子层沉积系统

资产编号

15004800

型号

PEALD-200A

规格

PEALD-200A|| ||PEALD-200A

产地

中国

厂家

嘉兴科民电子设备技术有限公司

所属品牌

出产日期

购买日期

所属单位

极化材料与器件教育部重点实验室

使用性质

科研

所属分类

上报

资产负责人

田博博

联系电话

021-54345257

联系邮箱

bbtian@ee.ecnu.edu.cn

放置地点

闵行校区信息楼202-204
  • 主要规格&技术指标
  • 主要功能及特色
  • 样本检测注意事项
  • 设备使用相关说明
  • 备注
主要规格&技术指标
1. 包含热型和等离子增强型原子层沉积功能
2. 设备采用一体化设计,嵌入式ELO触摸屏操作;设备尺寸小于1200(L)*800(W)*1600(H)
3. 腔体由远程等离子体沉积腔室和热型不锈钢反应腔室组成,并分别在两个腔体上设置有独立的光电限位开关。远程等离子体沉积腔室和不锈钢反应腔室分别设置有3个独立的前驱体源入口
4. 远程等离子体沉积腔室材质为阳极氧化铝,采用6061铝锭整体加工而成,反应腔室无焊接;腔门设有观察窗,以观察等离子体的放电状态;腔室及真空抽气管路的连接采用氟橡胶O型圈密封,真空漏率小于5*10-7Pa.L/s
5. 样品台尺寸为8-inch,同时能够向下兼容8-inch以下的衬底上的镀膜要求;样品台表面设有SiC片托,具有方便手动取片的工具
6. 样品台表面温度能够加热到400℃,温度控制精度为±0.5℃;对样品台表面晶圆温度在软件内进行温度关系校正
7. 反应腔外壁温度能够加热到150℃,保证腔室内温度的稳定性,同时具有保温装置,温度控制精度为±0.5℃
主要功能及特色
多项原子层沉积技术的交叉结合,可以实现多种材料的高性能原子层薄膜沉积。
样本检测注意事项
实现多种材料的高性能原子层薄膜沉积
设备使用相关说明
800元/小时+材料费
备注
参考学校相关规定
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