超高真空磁控溅射系统
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12844/小时总时长
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2/人收藏者
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收费标准
机时0元/小时 -
设备型号
定制 -
当前状态
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管理员
詹清峰 18868608825 -
放置地点
闵行校区闵行物理楼150
- 仪器信息
- 预约资源
- 检测项目
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名称
超高真空磁控溅射系统
资产编号
19004554
型号
定制
规格
定制|| ||定制
产地
中国台湾
厂家
铠柏科技有限公司
所属品牌
出产日期
购买日期
2019-06-18
所属单位
物理与电子科学学院
使用性质
科研
所属分类
上报
资产负责人
詹清峰
联系电话
18868608825
联系邮箱
qfzhan@phy.ecnu.edu.cn
放置地点
闵行校区闵行物理楼150
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
- 样本检测注意事项
- 设备使用相关说明
- 备注
主要规格&技术指标
两个磁控腔，共用一个传样室，在优于5×10-8torr的背底真空，基片温度可达800度
主要功能及特色
薄膜制备
样本检测注意事项
薄膜制备
设备使用相关说明
200/小时
备注
正常程序仪器共享平台预约
预约资源
检测项目
附件下载
公告
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