手套箱磁控溅射CuI基薄膜制备系统
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收费标准
机时500元/小时 -
设备型号
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当前状态
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管理员
杨长 15800906021 -
放置地点
闵行校区闵行物理楼设备用房
- 仪器信息
- 检测项目
- 附件下载
- 公告
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名称
手套箱磁控溅射CuI基薄膜制备系统
资产编号
21017540
型号
规格
PL-450SG|| ||手套箱磁控溅射定制型
产地
中国
厂家
深圳扑浪创新科技有限公司
所属品牌
出产日期
购买日期
所属单位
极化材料与器件教育部重点实验室
使用性质
科研
所属分类
资产负责人
杨长
联系电话
15800906021
联系邮箱
cyang@phy.ecnu.edu.cn
放置地点
闵行校区闵行物理楼设备用房
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
- 样本检测注意事项
- 设备使用相关说明
- 备注
主要规格&技术指标
1．镀膜机与手套箱连接，在手套箱中开关真空室，取放样品
2．镀膜机要求：
磁控电源：1套直流+2套射频
基片尺寸：最大镀膜区域1片圆形3寸基片
样品台：加热最高400度，制冷最低-80度，靶基距50-300mm范围可调
合理设计的碘蒸发、碘蒸气传输与流量精确控制系统
真空腔体、气体管路、真空泵需要具备防碘蒸气腐蚀的功能设计
极限真空度:≤8×10-5Pa，在充惰性气体后换基片的情况下抽到 5×10-4Pa≤30分钟
3．手套箱要求：
双工位手套箱宽度≥2400mm，单工位手套箱宽度≥1200mm
水氧指标：H2O<1ppm ，O2<1ppm
2．镀膜机要求：
磁控电源：1套直流+2套射频
基片尺寸：最大镀膜区域1片圆形3寸基片
样品台：加热最高400度，制冷最低-80度，靶基距50-300mm范围可调
合理设计的碘蒸发、碘蒸气传输与流量精确控制系统
真空腔体、气体管路、真空泵需要具备防碘蒸气腐蚀的功能设计
极限真空度:≤8×10-5Pa，在充惰性气体后换基片的情况下抽到 5×10-4Pa≤30分钟
3．手套箱要求：
双工位手套箱宽度≥2400mm，单工位手套箱宽度≥1200mm
水氧指标：H2O<1ppm ，O2<1ppm
主要功能及特色
本设备用于磁控溅射工艺制备CuI基半导体薄膜，其他氧化物、卤族化合物等光电功能薄膜。
样本检测注意事项
CuI半导体纳米、微米级薄膜样品制备加工。
设备使用相关说明
500元/片。
备注
用户需至少提前一周通过邮件（cyang@phy.ecnu.edu.cn）与该设备负责人联系，介绍实验目的和具体需求，并预约实验时间。
检测项目
附件下载
公告
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