超高真空多功能磁控溅射系统
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2890/小时总时长
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1/人收藏者
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收费标准
机时0元/小时 -
设备型号
JGP560 -
当前状态
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管理员
孙琳 021-54836047 -
放置地点
闵行校区信息楼102-104
- 仪器信息
- 预约资源
- 检测项目
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名称
超高真空多功能磁控溅射系统
资产编号
10003273
型号
JGP560
规格
JGP560|| ||*
产地
中国
厂家
中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司
所属品牌
中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司
出产日期
购买日期
2010-06-01
所属单位
极化材料与器件教育部重点实验室
使用性质
科研
所属分类
上报
资产负责人
孙琳
联系电话
021-54836047
联系邮箱
lsun@ee.ecnu.edu.cn
放置地点
闵行校区信息楼102-104
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
- 样本检测注意事项
- 设备使用相关说明
- 备注
主要规格&技术指标
极限真空:系统经48小时连续烘烤抽气后,其极限真空可达≤6.6×10-6Pa(5×10-8Torr)。 系统抽速:从大气开始抽气,在≤30分钟内,离子束室真空度≤6×10-4Pa。 磁控溅射室: 采用离子束溅射室:溅射离子枪引出栅直径Φ80mm，束流控制范围0~150mA；辅助沉积离子枪引出栅直径Φ60mm，束流控制范围0~120mA；样品最大尺寸Φ40mm接收溅射粒子沉积成膜。样品可连续回转；样品加热最高加热温度800℃±1℃。 进样室: 可放置6片(Φ40)样品,可上下升降，可对样品基片加热至850˚C。
主要功能及特色
该设备为三室立式结构的超高真空多功能磁控与离子束联合溅射镀膜制备设备，可用于开发纳米级的单层及多层功能膜-各种硬质膜、光学膜、金属膜、半导体膜、磁性薄膜、介质膜和氧化物薄膜等。系统主要由磁控溅射室、磁控溅射靶2英寸4个、直流电源、射频电源、离子束室等组成。该系统具有离子束溅射镀膜、磁控溅射镀膜、样品清洗及退火处理功能，每种沉积方式都有可以间替地对多种材料进行沉积。
样本检测注意事项
超高真空多功能磁控溅射系统是带有进样室的高真空多功能磁控溅射镀膜设备。
设备使用相关说明
无
备注
参考学校共享相关规定
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检测项目
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