高真空薄膜沉积系统
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4/人使用者
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185/次总次数
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2164/小时总时长
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2/人收藏者
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收费标准
机时0元/小时 -
设备型号
PLD-450 -
当前状态
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管理员
孙琳 021-54836047 -
放置地点
- 仪器信息
- 预约资源
- 检测项目
- 附件下载
- 公告
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名称
高真空薄膜沉积系统
资产编号
08006053
型号
PLD-450
规格
PLD-450|| ||*
产地
中国
厂家
中国科学院沈阳科学仪器研制中心
所属品牌
中国科学院沈阳科学仪器研制中心
出产日期
购买日期
2008-10-01
所属单位
极化材料与器件教育部重点实验室
使用性质
科研
所属分类
上报
资产负责人
孙琳
联系电话
021-54836047
联系邮箱
lsun@ee.ecnu.edu.cn
放置地点
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
- 样本检测注意事项
- 设备使用相关说明
- 备注
主要规格&技术指标
极限真空度：
外延室经烘烤 ≤5*10-8Pa
进样室经烘烤 ≤1*10-5Pa
系统漏率：
外延式漏率 2.0*10-8Pa.1/S
进样室漏率 5.0*10-8Pa.1/S
外延室经烘烤 ≤5*10-8Pa
进样室经烘烤 ≤1*10-5Pa
系统漏率：
外延式漏率 2.0*10-8Pa.1/S
进样室漏率 5.0*10-8Pa.1/S
主要功能及特色
在合适的工艺条件下，可制备各种铁电、半导体薄膜
样本检测注意事项
在合适的工艺条件下，可制备各种铁电、半导体薄膜
设备使用相关说明
500元
备注
参考学校共享相关规定
预约资源
检测项目
附件下载
公告
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