全自动反应离子束刻蚀机
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15/人使用者
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109/次总次数
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555/小时总时长
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20/人收藏者
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收费标准
机时300元/小时 -
设备型号
MRIBE-150 -
当前状态
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管理员
朱秋香,杨长 021-54836052 -
放置地点
闵行校区信息楼202-204
- 仪器信息
- 预约资源
- 检测项目
- 附件下载
- 公告
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名称
全自动反应离子束刻蚀机
资产编号
14006715
型号
MRIBE-150
规格
MRIBE-150|| ||MRIBE-150
产地
中国
厂家
北京创世威纳科技有限公司
所属品牌
北京创世威纳科技有限公司
出产日期
购买日期
2014-10-01
所属单位
极化材料与器件教育部重点实验室
使用性质
科研
所属分类
上报
资产负责人
钟妮 朱秋香
联系电话
021-54836052
联系邮箱
nzhong@ee.ecnu.edu.cn
放置地点
闵行校区信息楼202-204
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
- 样本检测注意事项
- 设备使用相关说明
- 备注
主要规格&技术指标
1. 刻蚀室真空度极限：≤9×10-5Pa
2. 刻蚀材料：各种金属薄膜、硬质薄膜等
3. 刻蚀速率：≥100 - 2000À/min (与刻蚀材料和工艺有关)
4. 离子源： 口径 12cm射频离子源。
5. Ar+离子能量范围：100 - 1000eV
6. 离子束功率密度：1w/cm2
7. 离子束流密度： 1mA/cm2
8. 离子束有效直径：≥75mm
9. 刻蚀工作台（最大刻蚀面积）：15cm
10. 工作台旋转方式：自转 0 - 30rpm。
11. 刻蚀角度：可调节，倾角调整角度 0 - 90°。
2. 刻蚀材料：各种金属薄膜、硬质薄膜等
3. 刻蚀速率：≥100 - 2000À/min (与刻蚀材料和工艺有关)
4. 离子源： 口径 12cm射频离子源。
5. Ar+离子能量范围：100 - 1000eV
6. 离子束功率密度：1w/cm2
7. 离子束流密度： 1mA/cm2
8. 离子束有效直径：≥75mm
9. 刻蚀工作台（最大刻蚀面积）：15cm
10. 工作台旋转方式：自转 0 - 30rpm。
11. 刻蚀角度：可调节，倾角调整角度 0 - 90°。
主要功能及特色
可实现对金属膜、化合物膜、硬质膜等各种薄膜材料进行高性能干法刻蚀。
样本检测注意事项
可实现对金属膜、化合物膜、硬质膜等各种薄膜材料进行高性能干法刻蚀
设备使用相关说明
反应刻蚀：校内300元/小时，校外600元/小时
备注
参考学校共享相关规定
预约资源
检测项目
附件下载
公告
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