分子束外延系统
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5/人使用者
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180/次机时次数
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4847/小时总时长
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0/次送样次数
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4/人收藏者
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收费标准
机时0元/小时 -
设备型号
Compact 12 -
当前状态
-
管理员
白伟,杨静,唐晓东 13564685120 -
放置地点
闵行校区信息楼118
- 仪器信息
- 预约资源
- 检测项目
- 附件下载
- 公告
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名称
分子束外延系统
资产编号
10006349
型号
Compact 12
规格
Compact 12|| ||*
产地
法国
厂家
Riber公司
所属品牌
Riber公司
出产日期
购买日期
2010-03-01
所属单位
极化材料与器件教育部重点实验室
使用性质
科研
所属分类
上报
资产负责人
唐晓东 白伟 杨静
联系电话
13564685120
联系邮箱
xdtang@sist.ecnu.edu.cn
放置地点
闵行校区信息楼118
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
- 样本检测注意事项
- 设备使用相关说明
- 备注
主要规格&技术指标
1、真空度指标
常温真空：5*10-10 torr
液氮真空：1*10-10 torr
2、衬底温度：
RT-1000oC （600 oC时，精度±3 oC）
3、源温度：
① ADDON MHT-35: 1700 oC (精度±0.5 oC)
② ADDON MHT-35: 1700 oC (精度±0.5 oC)
③ ADDON MIC-19: 1350 oC (精度±0.5 oC)
④ ADDON MIC-19: 1350 oC (精度±0.5 oC)
⑤ ADDON CF-35: 1100 oC (精度±0.5 oC)
常温真空：5*10-10 torr
液氮真空：1*10-10 torr
2、衬底温度：
RT-1000oC （600 oC时，精度±3 oC）
3、源温度：
① ADDON MHT-35: 1700 oC (精度±0.5 oC)
② ADDON MHT-35: 1700 oC (精度±0.5 oC)
③ ADDON MIC-19: 1350 oC (精度±0.5 oC)
④ ADDON MIC-19: 1350 oC (精度±0.5 oC)
⑤ ADDON CF-35: 1100 oC (精度±0.5 oC)
主要功能及特色
是一种半导体氧化物外延薄膜的生长设备。应用于铁电、铁磁氧化物材料薄膜及其多层膜（如：超晶格、隧道结）的制备。
样本检测注意事项
是一种半导体氧化物外延薄膜的生长设备。应用于铁电、铁磁氧化物材料薄膜及其多层膜（如：超晶格、隧道结）的制备。
设备使用相关说明
无
备注
根据华东师范大学等相关规定进行。
预约资源
检测项目
附件下载
公告
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